年產五十余臺。
極紫外線光刻機是芯片生產工具，是生產大規模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小於5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了壹臺EUV（極紫外線）光刻機。