構成專利侵權的要件包括兩個方面:形式條件和實質條件。正式要求主要包括:
1)實施行為涉及有效的中國專利；
2)實施行為必須未經專利權人許可或授權；
3)實施行為必須以生產經營為目的。行為人是否具有主觀故意不是形式要件。但可以作為衡量其情節嚴重程度的依據。
專利侵權的要件，即技術條件，實質性實施行為是否屬於專利保護範圍。
如果行為人涉及的技術特征屬於專利保護範圍，那麽行為人構成專利侵權。主要表現:
1)行為人所涉及的技術特征全部與專利相同，構成侵權；
2)行為人涉及的技術特征多於專利，也構成侵權；
3)行為人涉及的技術特征與專利相同，但不同的技術特征與專利等同，仍構成侵權；否則不構成侵權。這裏的技術特征等效是指本技術領域的普通技術人員可以推斷出兩個技術特征相互替換後具有相同的效果。