CINNO Research產業資訊，經確認，三星SDI已著手開發半導體光刻膠（PR）。據分析，此舉壹方面為了打破日本廠商的壟斷實現光刻膠的韓國國產化，另外從公司角度看，也可擺脫電子材料事業部的單壹銷售結構，實現銷售多元化。
據韓媒Sedaily6月20日消息，三星SDI電子材料事業部最近向研究所入庫了用於開發PR的8英寸晶圓曝光及履帶設備。據悉，在三星SDI電子材料開發室室長金相均的帶領下，還進行了PR研究部門的重整及力量強化。公司還通過公開招聘，聘請了利用光刻膠的的半導體曝光領域的專家。
三星SDI開發半導體光刻膠的舉措將對韓國半導體材料國產化產生重大的影響。作為半導體工藝中必不可少的物質，光刻膠壹直被日本廠商所壟斷。光刻膠也是2019年日本政府對韓國出口管制時，被指定為出口限制清單之壹。
當時，日本僅限制出口尖端工藝用材料—極紫外線(EUV)光刻膠。但通用的ArF、KrF光刻膠卻被日本材料廠商獨食。比如，用於制造CMOS圖像傳感器的KrF光刻膠，日本富士公司占據大部分市場份額，技術領先。
自日本出口管制事件以來，日本TOK、美國杜邦等廠商為了實現光刻膠本地化生產，壹直有推動供應鏈重塑的行動。在韓國，東晉世美肯、SK Materials等制造光刻膠的企業也有開發各工藝別光刻膠的本土化動作。但很多人指出，韓國要躍升為半導體核心材料的樞紐，需要投入更大的資本和人力。
對此，有業內人士分析，擁有豐富資本和高級材料研究人才的三星SDI正式進入該領域，如果能量產任何形式的光刻膠，對培育韓國半導體核心材料研究基礎都將大有益處。
另外，主要需求方三星電子為了材料供應鏈多樣化和材料垂直系列化，也很有可能與三星SDI積極合作。光刻膠產品實現商業化後，對三星SDI電子材料事業部銷售多樣化也有積極作用。
此前，業內人士指出，三星SDI電子材料事業部在半導體材料領域對SOH（Spin on Hardmask)、Slurry等主要產品的銷售依賴度較高，需要改善。對此，三星SDI電子材料事業部不僅選擇了光刻膠，還選定了七大課題，力求實現銷售多樣化。
三星SDI的壹位相關人士表示：“向研究所引進新設備是沒錯的，但目前尚未確定將開發哪些產品並將其商業化。”
- END -