目前，mask aligner在全球的R&D由荷蘭、美國、日本掌握，根本不會對外開放，也不會對外公布，導致國內在這方面受到嚴重限制。尤其是2020年，由於全球疫情，每個國家都不同程度的出現芯片短缺。特別是國內對芯片的需求壹直很高，國外利用中國技術短板在中國市場獲利頗豐。
外國公司壟斷技術的同時，也在打壓中國高科技公司的成長，導致很多公司因為沒有核心技術而瀕臨倒閉。因此，為了改變技術格局，打破國外的技術封鎖，國家將在光刻機方面啟動自主研發項目。
據專家推測，中國在光刻機方面的技術與世界頂尖水平還有20年的差距。可以說差距還是比較大的，但是國家已經開始了相關的研究工作，相信在所有人的努力下，技術封鎖總有壹天會被打破。
開發光刻機的難點是什麽？
第壹:思想難度。
中國有這種思維方式的人不少。還不如自己花錢研究，買不到就花錢租。最好的產品可以用最低的成本生產出來。這種想法雖然沒有錯，但是利潤卻大打折扣，很多時候他們沒有控制權，沒有決定權。所以，光刻機的研發不僅僅是壹個技術問題，更是壹個人的思想問題。
第二:技術難度。
光刻機的技術壹直是壟斷行業，掌握在發達國家手裏。中國想研究光刻機，但是沒有任何資源只能靠自己的能力。但是技術上的差距太多了，必然會有很多問題，所以R&D過程中的技術問題就成了很多人要解決的關鍵。
第三:環境難度。
沒有壹個國家能夠獨立完成光刻機中的R&D，每個國家只負責光刻機中的部分生產和研究工作。因此，中國自主研發光刻機技術不僅是技術和思想上的困難，也是國際環境下需要克服的困難。因為沒有國家願意提供幫助，也沒有國家能夠獨立完成從R&D到生產光刻機的過程，中國不得不面臨比其他國家更多的困難。
壹旦光刻機技術研發成功，不僅可以解決我國自主芯片的制造問題，還可以將我國的高技術提前20年。無論是高端高分子材料還是高端化學都可以全面進步，這也是為什麽國家要花重金研發光刻機的原因。