二次灌漿法包括自重法灌漿法、高位漏鬥法灌漿法和壓力法。
1、自重法灌漿
自重法灌漿是指水泥基灌漿材料在施工過程中，利用其良好的流動性，依靠自身重力自行流動滿足灌漿要求的方法。
2、高位漏鬥法灌漿
高位漏鬥法灌漿是指水泥基灌漿材料在施工過程中，當其自行流動不能滿足灌漿要求時，利用高位漏鬥提高位能差，滿足灌漿要求的方法。
3、壓力法灌漿
壓力法灌漿是指水泥基灌漿材料在施工過程中，采用灌漿增壓設備，滿足灌漿要求的方法。根據灌漿部位的實際情況選擇相應的灌漿方法，由於SikaGrout214具有良好的流動性能，壹般情況下，用“自重法灌漿”即可。
如果灌漿面積大，結構特別復雜或空間很小而距離很遠時，可采用“高位灌漿法”或“壓力灌漿法”進行灌漿，以確保漿料能充分填滿各個角落。
二次灌漿施工註意事項：
1、選擇適合的方法
二次灌漿應根據工程實際情況，選用合適的灌漿方法。工藝流程應符合附錄C的要求。
2、清理衛生
灌漿前，應將與灌漿材料接觸的設備底板和混凝土基礎表面清理幹凈，不得有松動的碎石、浮漿、浮灰、油汙、蠟質等。灌漿前24h，基礎混凝土表面應充分潤濕，灌漿前1h，清除積水。
3、不得兩側同時灌漿
二次灌漿時，應從壹側進行灌漿，直至從另壹側溢出為止，不得從相對兩側同時進行灌漿。灌漿開始後，必須連續進行，並盡可能縮短灌漿時間。
4、可分段施工
軌道基礎或灌漿距離較長時，視實際工程情況可分段施工。
5、嚴禁振搗
在灌漿過程中嚴禁振搗，必要時可采用灌漿助推器沿漿體流動方向的底部推動灌漿材料，嚴禁從灌漿層的中、上部推動。
設備基礎灌漿完畢後，宜在灌漿後3～6h沿底板邊緣向外切45°斜角。
二次灌漿時，模板與設備底座四周的水平距離宜控制在100mm左右；模板頂部標高應不低於設備底座上表面50mm。