高頻等離子體炬在工業中已有多方面的應用，特別是在等離子體化工、冶金和光學材料提純等方面。它還可制備超導材料，如用氫高頻等離子體還原釩－矽（或釩－鍺），鈮－鋁（或鈮－鍺）的氯化物蒸氣以制備超導材料。中國冶金、采礦企業中需處理的鈦礦石、含釩礦渣、磷礦石以及工業難熔廢料含稀有材料的礦渣很多，采用高頻等離子體炬是頗有前途的冶煉手段，可從中煉出有用的金屬和稀有元素。
高頻等離子體發生器的功率輸出範圍為0.5～1兆瓦，效率為50%～75%，放電室中心溫度壹般約高達7000～10000開。
低氣壓等離子體發生器壹種低氣壓氣體放電裝置，壹般由三部分組成：產生等離子體的電源、放電室、抽真空系統和工作氣（或反應氣）供給系統。通常有四類：靜態放電裝置（圖5之a）、高壓電暈放電裝置(圖5之b)、高頻（射頻）放電裝置（有3種類型，圖5之c）和微波放電裝置（圖5之d）。把被處理的固體表面或需要聚合膜層的基體表面置於放電環境中，由等離子體處理。由於低氣壓等離子體為冷等離子體，當氣壓為 133～13.3帕左右時，電子溫度高達10000開，而氣體溫度只有300開，既不致燒壞基體，又有足夠能量進行表面處理。低氣壓等離子體發生器已日益廣泛應用於等離子體聚合、制備薄膜、刻蝕、清洗等表面處理工藝中。成功的例子如：在半導體制作工藝中，采用氟裏昂等離子體幹腐蝕，用離子鍍法在金屬表面生成氮化鈦膜等。70年代以來，低氣壓等離子體對非金屬固體（如玻璃、紡織品、塑料等）的表面處理及改性技術也有迅速發展。