磁控濺射中的靶材分為金屬合金靶和陶瓷靶，那像壹些金屬氧化物的靶材為什麽叫陶瓷靶呢？

磁控濺射中的靶材確實分為金屬合金靶和陶瓷靶。金屬合金靶主要由純金屬或金屬間的合金組成，而陶瓷靶主要由金屬氧化物、氮化物、硼化物等無機非金屬化合物組成。盡管金屬氧化物的靶材含有金屬成分，但它們被稱為陶瓷靶的原因在於其結構和性質。

陶瓷是壹種無機非金屬材料，通常具有以下特點：

1. 高熔點和高硬度：與金屬材料相比，陶瓷材料通常具有較高的熔點和硬度。

2. 良好的耐磨性和抗氧化性：由於其高硬度和穩定的化學性質，陶瓷材料通常具有良好的耐磨性和抗氧化性。

3. 低熱導率和低電導率：與金屬材料相比，陶瓷材料通常具有較低的熱導率和電導率，表現出絕緣或半導體特性。

金屬氧化物靶材，如ITO（錫-銦氧化物）、AZO（鋯-鋁氧化物）和ZnO等，雖然含有金屬元素，但它們在結構和性質上與陶瓷材料更為接近。例如，它們具有較高的熔點、穩定的化學性質、低熱導率和低電導率等特點。因此，將金屬氧化物靶材稱為陶瓷靶可以更好地反映其結構和性質，以便在濺射過程中選擇合適的靶材。